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반도체 study16

AP란? application processor가 뭐길래? 자꾸 해외 영입을? 최근 반도체 관련 기사들이 매우 많이 나오고 있습니다. 반도체를 공부하는 사람이라면 세계가 반도체를 관심 대상으로 바라보고 있으니 매우 기분이 좋습니다. 최근 반도체 뉴스들을 보면 system 반도체, application processor AP 반도체 설계, memory 반도체라는 용어들이 매우 많이 나오고 있습니다. 가장 최근 뉴스를 보면 애플 출신 반도체 전문가를 영입해서 갤럭시에 맞춤 AP (application processor)를 만들겠다! 하는 기사들이 많이 나오고 있습니다. 아니 한국에도 반도체 전문가가 많은데, AP 반도체 설계 전문가는 또 다른건가? 라고 생각할 수 있습니다. 네 완전히 다른 이야기 입니다. 반도체 설계 전문가 라고 해서 반도체를 만드는 사람이 아니라 우리 두뇌와 같은 .. 2023. 1. 17.
반도체 시험 단골 gate length와 roll off에 대한 이해. gate channel length and threshold voltage roll off. 반도체 시험과 면접 문제에 단골로 등장하는 것이 MOSFET의 gate length와 roll off 입니다. 두 내용을 각각 따로 설명하고 따로 이해해도 문제도 없습니다. 하지만 해당 내용을 하나의 스토리로 엮어서 설명을 할 수 있다면 더 높은 점수를 얻으실 수 있습니다. Gate length 설명을 시작으로 roll off에 대한 이야기로 설명을 진행 해 보겠습니다. MOSFET은 gate라고 불리는 수문으로 전자 혹은 홀 (정공) (영어로는 electron과 hole)이 source에서 drain으로 이동하는 것을 제어하고 있습니다. Source에서 drain까지의 전체 길이에 대해 gate가 관여하고 있으며, 이 gate의 길이를 gate length라고 부르고 있습니다. gate channel .. 2020. 5. 17.
lithography EUV 공정에 대한 기초 설명 반도체 공정 중 lithography에 대해서 간략하게 정리 해 보고자 합니다. 반도체 공정에는 다양한 공정이 있습니다. 각 공정 별 설명을 할 예정이고, 이번 포스팅에서는 lithography에 대해서 먼저 정리 해 보고자 합니다. Si위에 SiO2 산화막을 길렀다면 이제 원하는 모양으로 산화막을 만들어야 합니다. 특정 부분은 산화막을 지워야 하고, 특정 부분은 살려서 또 다른 용도로 사용하기 위함입니다. 즉 아파트 단지를 설계하기 위해 땅에다가 표시를 하고 설계도를 그려야 하는데 그 작업을 이 lithography에서 진행을 하게 됩니다. Photolithography라고도 불립니다. 이 공정이 매우 작게 그리고 무조건적으로 정확하게 진행이 되어야 집적도가 높은 반도체를 생산할 수 있게 됩니다. Li.. 2020. 5. 4.
time dependent dielectric breakdown TDDB 반도체 신뢰성에 대한 설명 및 간략한 mechanism 설명 반도체 신뢰성 분야 공부를 하다 보면 가장 기본적인 것이 oxide quality 평가 입니다. SiO2라는 기가 막힌 dielectric 물질의 사용과 해당 물질의 기가 막힌공정 quality 덕분에 oxide가 특수하게 얇지 않은 이상 dielectric 층으로써 매우 훌륭하게 본연의 역할을 MOSFET안에서 수행하고 있습니다. 하지만MOSFET의 구조 변화와 특성 개선의 이유로 다양한 공정이 추가 되고 있는 상황이기 때문에 MOSFET에 사용되는 oxide quality 평가의 중요성은 지속적으로 증가하고 있습니다. MOSFET에 사용되는 oxide의 역할이 도대체 뭐길래 이렇게 중요하다고 이야기 하고 있는지 간단하게 설명을 해 보겠습니다. MOSFET의 oxide층 즉SiO2층은 gate에서 su.. 2020. 5. 3.
Energy band diagram program 추천. 이렇게 쉽게 에너지 밴드 다이어그램을 그릴 수 있습니다. 프로그램 추천 반도체를 공부하는 학생이나, 반도체를 업으로 살고 있는 사람들에게는 energy band diagram 에너지 밴드 다이어그램을 자주 접하고, 또 자주 그리고 있을 것입니다. 매번 손으로 그리고, 원하는 단자에 전압을 인가했을 때 변화하는 fermi level과 intrinsic level과의 변동 폭 등을 확인하기 위해 그림을 여러 번 그리는 경우가 다양하게 발생합니다. 그래서, energy band diagram을 쉽게 그리는 프로그램을 소개하고자 합니다. 이에 앞서, Energy band diagram을 그릴 수 있는 tool을 먼저 몇 가지 소개해 보고자 합니다. 가장 쉽게 energy band diagram을 그릴 수 있는 방법은 파워포인트 ppt나 손으로 그리는 것이 가장 쉽습니다. 다만 지식.. 2020. 4. 26.
반도체 신뢰성 hot carrier effect는 회로에 어떤 영향을 주는가 section 2 Electron이 gate oxide에 trapping되어 발생하는 hot carrier 현상이 회로 동작에서 어떤 영향을 미치는지 간단하게 알아볼 수 있습니다. 바로 invertor 동작에서 확인이 가능합니다. 위 그림에서 hot carrier 발생 영역이라고 표기한 부분은 invertor에서 NMOSFET이 켜질 때입니다. 즉 NMOSFET이 적절한 timing에서 켜지지 못하면 Vout의 감소 level의 timing에 변화가 생기게 됩니다. 아래 그림에서 알 수 있듯이, NMOSFET이 적절한 타이밍에 켜지지 않기 때문에 Vout의 감소 timing에 차이가 발생함을 알 수 있습니다. 역으로 Vout에서 해당 시간에 0을 만들어야 하는데, NMOSFET의 hot carrier 열화로 특정 timi.. 2020. 4. 21.
반도체 신뢰성 hot carrier effect에 대하여. section 1 반도체 소자 신뢰성을 평가하기 위해서는 기본적으로 어떤 상황에서 왜 생기는지 이해를 해야 열화 현상에 대해서 분석하고 해결하는 의미를 찾을 수가 있습니다. 본 포스팅에서는 hot carrier effect라고 불리는 열화 현상에 대해서 어떤 상태에서 생기고, 발생했을 때 어떤 문제가 있는지 설명하도록 하겠습니다. -.Hot carrier effect란? 지난 포스트(https://tech-goodtohear.tistory.com/25)에서 설명했던 것처럼 열화 현상은 특정 전류 특성이 시간이 지남에 따라 변화되는 현상입니다. 아래 그래프에서 검정색 선이 기존에 잘 만들어진 반도체 특성이라고 한다면, 특정 시간이 지난 후에 오른쪽 그림의 빨간색 선처럼 변화되는 현상이 바로 열화 현상이라고 할 수 있습니다... 2020. 4. 20.
반도체 측정 장비 소개 및 반도체 측정 장비 산업의 현 주소 반도체 측정 장비에 대해서 소개해 보고자 합니다. 반도체 측정 장비는 구글 검색과 한국과학기술정보연구원 기술동향 자료, the semicon 반도체 전문지를 참고하여 작성하였습니다. 반도체는 wafer위에 chip 형태로 제작이 되며 제작된 chip의 동작 이상 유무와 반도체 소자의 특성을 분석하기 위해 공정 완료 후 측정 평가를 진행하게 됩니다. keithley, keysight, NI STS시리즈 들이 주로 사용되고 있으며, 대학교에서도 쉽게 찾아볼 수 있는 측정 장치입니다. 최근에는 자동차에도 반도체가 많이 사용됨에 따라 반도체 측정용 MDA800 시리즈와 같은 분석기의 관심도 또한 높아지고 있습니다. 특히 예전에는 단순한 작업의 측정 평가만이 이루어졌다면, 이제는 다목적 복합 동작에 대한 여러 상.. 2020. 4. 16.

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